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光刻机是制造芯片的核心设备，其工作原理类似于“投影曝光"。它通过一系列复杂的光学系统和精密控制，将掩模版上的电路图形精确地缩小并投影到涂有光刻胶的硅片上，使光刻胶发生化学反应。经过后续的刻蚀、离子注入等工艺，最终在硅片上形成所需的晶体管和电路结构。光刻机的技术水平直接决定了芯片的制程工艺和集成度，是衡量一个国家半导体制造业水平的关键标志。

今日，雷博科仪隆重推出惭础200-叠贰光刻机，以创新技术重塑精度边界，致力于为先进半导体制造提供更高效、更稳定的国产化解决方案。